芯动科技完成了全球首个基于中芯国际FinFET N+1先进工艺的芯片流片和测试，所有IP全自主国产，功能一次测试通过，这是过去数月工艺迭代和共同努力后获得的里程碑成果。
外界认为中芯国际的N+1代工艺相当于台积电的7nm工艺，不过中芯国际随后澄清说，N+1是中芯国际的内部代号，并不等于7nm。
从性能指标看，功耗，逻辑面积，SoC面积都和7nm相当，当时性能稍差，真正7nm性能应该提高35%，而N+1只有20%。
从这个角度看，N+1和7nm是性能相当的工艺，而且即将走出实验室, 迈向量产!
这是不依赖EUV技术的新突破，可以在一定程度上缓解中国半导体芯片制程落后的局面。